Foto lithographie Prozess Filtration Lösung

Der Photo lithographie prozess bezieht sich auf die Technologie, die Muster auf der Masken platte unter Einwirkung von Licht (normaler weise ultraviolettes Licht, tiefes ultraviolettes Licht, extremes ultraviolettes Licht) mit Hilfe von Fotolack auf das Substrat zu übertragen. Der Photo lithographie prozess ist einer der wichtigsten Schritte in der Halbleiter herstellung. Die Kosten machen etwa 1/3 des gesamten Herstellungs prozesses für Silizium wafer aus, und der Zeitaufwand macht etwa 40-60% des gesamten Silizium wafer prozesses aus. Auf dem Gebiet der Halbleiter herstellung ist die Kontrolle extrem kleiner Verunreinigungen im Foto lithographie prozess äußerst streng, da die Linienbreite der Halbleiter verarbeitung immer kleiner wird. Es kontrolliert nicht nur streng Partikel, sondern hat auch strenge Anforderungen an eine geringe Ausgasung. Die Produkte unseres Unternehmens verwenden fortschritt liche Geräte und Verfahren, um Produkte mit aus gezeichneter Filtration effizienz, Sauberkeit und Chemikalien beständigkeit herzustellen, um verschiedene SEMI-Foto lithographie verfahren anwendungen zu erfüllen.