Solución de filtración de proceso de fotolitografía

El proceso de fotolitografía se refiere a la tecnología de transferencia de los patrones en la placa de máscara al sustrato bajo la acción de la luz (generalmente luz ultravioleta, luz ultravioleta profunda, luz ultravioleta extrema) con la ayuda de fotorresistencia. El proceso de fotolitografía es uno de los pasos más importantes en la fabricación de semiconductores. Su costo representa aproximadamente 1/3 de todo el proceso de fabricación de obleas de silicio, y el tiempo consumido representa aproximadamente 40-60% de todo el proceso de obleas de silicio. En el campo de la fabricación de semiconductores, a medida que el ancho de línea del procesamiento de semiconductores se hace cada vez más pequeño, el control de contaminantes extremadamente pequeños en el proceso de fotolitografía es extremadamente estricto. No solo controla estrictamente las partículas, sino que también tiene requisitos estrictos para una baja desgasificación. Los productos de nuestra compañía utilizan equipos y procesos avanzados para producir productos con excelente eficiencia de filtración, limpieza y resistencia química para cumplir con diferentes aplicaciones de procesos de fotolitografía SEMI.