Soluciones de filtración de procesos húmedos de semiconductores

Uno de los mayores desafíos en la industria de fabricación de semiconductores es la contaminación de la superficie de las obleas de silicio. La investigación ha demostrado que los defectos causados por la contaminación pueden provocar fallas eléctricas en los chips, con una tasa de fallas tan alta como 80%. Si los contaminantes no se eliminan por completo durante la fabricación de obleas, puede afectar el rendimiento de las obleas o incluso provocar el desguace de lotes completos. Por lo tanto, los procesos de limpieza de semiconductores son uno de los pasos más críticos en la fabricación de semiconductores. Los procesos húmedos, como parte importante de los procesos de semiconductores, implican el grabado y la limpieza de la superficie de la oblea utilizando productos químicos (ácidos, bases, disolventes, etc.) y agua ultrapura como medio líquido.